鄭州美國ILT XSD140B 輻照計/照度計價格與型號參數(shù)
- 型號 類型 XSD140B輻照計/照度計
- 制造商 品牌 美國ILT
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功能參數(shù)簡介：International Light國際光學ILT2400輻照計專用探頭XSD140B用于PCB印刷線路板及半導體行業(yè)光刻膠工藝紫外線曝光強度測量，響應波段326-401nm，中心波長365nm，輻照度量程7e-8至1W/cm2，研究級的質(zhì)量，手持式產(chǎn)品的價格。
XSD140B 輻照計/照度計圖片
美國IL ILT2400+XSD140B輻照計365nm光阻劑紫外輻射測量
美國International Light國際光學公司自1965年成立以來，為客戶提供各種光源及設計制造精確的光測量儀器，滿足廣泛的需求，解決光測量的固有困難。ILT測光表是易于使??用的高性能儀器，非常適合用作光度計photometers (勒克斯lux meters)、強度計intensity meters (坎德拉candela)、固化測量儀/輻照度計/光量計curing meters (劑量和曝光測量dose and exposure meters)、能量功率計power meters (瓦或流明watts or lumens)和flash meters (Xenon or LED strobe lamps)。ILT公司的經(jīng)典產(chǎn)品包括UV燈、ILT1400輻射計及升級款ILT2400輻照計、ILT1700研究級光測量儀。
Photoresist光刻膠是一種光敏化學物質(zhì)，用于在表面或基材上形成涂層，并用于形成工業(yè)加工的圖案。然后可以將該涂層暴露于稱為光刻膠的作用光譜的特定光帶，以影響光刻膠中期望的變化。這種變化導致光致抗蝕劑變得可溶或不溶于稱為顯影劑的另一種化學品，該顯影劑將在光致抗蝕劑上被洗滌。一旦顯影，已經(jīng)暴露于作用光譜中的光刻膠保留或被沖走，留下可用于進一步處理的圖案，例如化學蝕刻，雕刻或光刻。
光阻劑廣泛用于PCB印刷電路板行業(yè)，其中通過其使用蝕刻化學品來布置電路連接或印刷電路板跡線。另一個重要的光刻膠用戶是半導體工業(yè)，它是用于形成單個半導體器件的微小電路的微圖案的光刻生產(chǎn)中的關(guān)鍵步驟。市場上存在多種光刻膠類型以適應各種各樣的應用，并且作用光譜可以從一個波段變化到另一個波長。
控制作用光譜曝光設置（光線輻照強度和曝光時間）是至關(guān)重要的，它可以避免在加工和生產(chǎn)過程中光刻膠的浪費性下曝光或曝光過度。為了保持這些設置，需要具有盡可能接近光阻劑作用光譜的光譜響應的測光表輻照計來精確地知道光致抗蝕劑曝光的程度。更復雜的是，光刻膠暴露的加工設備通常非常緊湊并且沒有足夠的空間來進行這些測量。
美國ILT國際光學致力于提供各種獨特的光刻膠專用儀器來實現(xiàn)這些困難的測量。如用于ILT2400輻照計的XSD140B光探測器探頭可測量326-401nm波段，輻照度范圍7e-8 ~ 1 W/cm²，直徑大小15x42 mm，另有XSD340B 30 W/cm²高強度探頭，可針對特定波長為這些探頭安裝過濾片以進行精準測量。
International Light XSD Detectpr系列光刻探測器
ILT2400+XSD140A：量程4e-8 to 0.7 W/cm2，響應波段320-475 nm，校準于405nm波長
ILT2400+XSD340A：量程8e-7 to 10 W/cm2，響應波段320-475 nm，校準于405nm波長
ILT2400+XSD140B：量程7e-8 to 1 W/cm2，光譜范圍326-401 nm，中心波長365nm
ILT2400+XSD340B：量程3e-6 to 30W/cm2 高強度，測量光譜326-401 nm，校準于365nm
規(guī)格文檔說明書http://www.testeb.com/download/201805/ILT2400_XSD140B.pdf
美國International Light PCB板曝光測量光刻膠輻照計與探頭選型表
| 輻照計/探頭組合 | 響應波長頻譜 | 測量范圍 | 類型及應用 |
| ILT5000, SED033/A/W | 320-475 nm | 2e-9 ~ 2 W/cm² |
臺式，Photoresist光刻膠/光阻材料， PCB板曝光系統(tǒng)，UVA光源，UV-Vis光源 |
| ILT2400, SED033/A/W | 320-475 nm | 2e-7 ~ 2 W/cm² | 手持式，Photoresist光刻膠/光阻劑，同上 |
| ILT1000/A/W | 320-475 nm | 2e-7 ~ 2 W/cm² |
手持式，Photoresist光刻/光阻劑， PCB板曝光系統(tǒng)，UVA光源，UV-Vis光源 |
| ILT1700, SED033/A/W | 320-475 nm | 7e-9 ~ 4 W/cm² | 臺式，Photoresist光刻/光阻劑，同上 |
| ILT2400, XSD140A | 320-475 nm | 4e-8 ~ 0.7 W/cm² |
手持式，Photoresist光刻/光阻劑， PC板曝光系統(tǒng)，UVA光源，UV-Vis光源 |
| ILT2400, XSD340A | 320-475 nm | 8e-7 ~ 10 W/cm² | 同上，大功率高強度輻照探頭 |
| ILT5000, SED033/B/W | 326-401 nm | 3e-10 ~ 0.2 W/cm² |
臺式，Photoresist光刻/光阻劑， PCB線路板曝光系統(tǒng)，UVA光源，UV-Vis光源 |
| ILT2400, SED033/B/W | 326-401 nm | 2e-8 ~ 0.2 W/cm² | 手持式，同上 |
| ILT1700, SED033/B/W | 326-401 nm | 5e-9 ~ 0.5 W/cm² | 臺式，同上 |
| ILT1000/B/W | 326-401 nm | 2e-7 ~ 2 W/cm² | 手持式，同上 |
| ILT2400, XSD140B | 326-401 nm | 7e-8 ~ 1 W/cm² |
手持式，Photoresist光刻/光阻劑， PCB曝光系統(tǒng)，UVA光源，UV-Vis光源 |
| ILT2400, XSD340B | 326-401 nm | 2e-6 ~ 30 W/cm² | 手持式，Photoresist光刻膠/光阻劑，高強度測量 |
| ILT2400, SSD001 | 260-400 nm | 6e-6 ~ 0.9 W/cm² |
手持式，超薄傳感器， PCB板曝光系統(tǒng)，UVA光源，UV-Vis光源 |
ILT2400中文版簡易操作說明書http://www.testeb.com/download/201805/ILT2400_Quick_Manual.pdf
分析儀軟件介紹文檔http://www.testeb.com/download/201805/ILT_DataLight-Trend-Manual.pdf
